Naukowcy z firm NEC, Seiko Instruments oraz z Himeji Institute of Technology opracowali ultraprecyzyjną technologię produkcji trójwymiarowych obiektów w skali nanometrów (1 nanometr to 1/1 000 000 000 metra).
By zademonstrować możliwości nowego procesu produkcyjnego, wykonali z węgla najmniejszy na świecie kieliszek do wina o średnicy 2,75 nm, czyli około 200 tysięcy razy mniejszy od standardowych kieliszków.
Nowa technologia znajdzie zastosowanie przy produkcji półprzewodników i innych zaawansowanych produktów elektronicznych nowej generacji, takich jak między innymi biosensory, bardzo wydajne optyczne urządzenia komunikacyjne i przełączniki, których rozmiary mierzone będą nie w mikronach (1 mikron - 1/1 000 000 metra), a w nanometrach, jednostkach aż tysiąc razy mniejszych.
Technologia ta otwiera także perspektywy dla nanoelektromechaniki, nanooptyki, produkcji bionanochipów i sensorów.
W chwili obecnej tworzenie tak małych struktur wymaga korzystania z dwuwymiarowego procesu produkcji, stosowanego przy półprzewodnikach, który ma jednak kilka ograniczeń. Między innymi używane przy produkcji lasery oferują dokładność tylko do poziomu mikronów, a maszyny wykorzystywane obecnie nie są w stanie skutecznie pracować nad obiektami o tak małych wymiarach.
Nowatorskie rozwiązanie naukowców z NEC, Seiko Instruments i Himeji Institute of Technology opiera się na użyciu wiązki jonów galu o średnicy 10 nm i komputerowo kierowanego systemu odchylenia elektromagnetycznego, który umożliwia w gazie zawierającym materiał bazowy tworzenie w czasie rzeczywistym obiektów z dokładnością do poniżej 100 nm.
[em]
Nowa technologia znajdzie zastosowanie przy produkcji półprzewodników i innych zaawansowanych produktów elektronicznych nowej generacji, takich jak między innymi biosensory, bardzo wydajne optyczne urządzenia komunikacyjne i przełączniki, których rozmiary mierzone będą nie w mikronach (1 mikron - 1/1 000 000 metra), a w nanometrach, jednostkach aż tysiąc razy mniejszych.
Technologia ta otwiera także perspektywy dla nanoelektromechaniki, nanooptyki, produkcji bionanochipów i sensorów.
W chwili obecnej tworzenie tak małych struktur wymaga korzystania z dwuwymiarowego procesu produkcji, stosowanego przy półprzewodnikach, który ma jednak kilka ograniczeń. Między innymi używane przy produkcji lasery oferują dokładność tylko do poziomu mikronów, a maszyny wykorzystywane obecnie nie są w stanie skutecznie pracować nad obiektami o tak małych wymiarach.
Nowatorskie rozwiązanie naukowców z NEC, Seiko Instruments i Himeji Institute of Technology opiera się na użyciu wiązki jonów galu o średnicy 10 nm i komputerowo kierowanego systemu odchylenia elektromagnetycznego, który umożliwia w gazie zawierającym materiał bazowy tworzenie w czasie rzeczywistym obiektów z dokładnością do poniżej 100 nm.
[em]